在微纳加工领域,传统光刻技术常受限于超净环境与特定光刻胶材料。
天恒科仪推出一款小型通用手动对准和曝光系统,使准直机(aligner)的应用领域不再局限于微电子和传统光刻胶。可以直接在各种有机物上,例如:PMMA、ABS或其他有机材料上进行光刻,成为MEMS、微流控、生物工程和生命科学等研究领域的理想工具。
凭借光源技术与极简操作为实验室和小型生产环境提供一种易于使用的高精度光刻解决方案。
对准光刻系统
核心技术亮点
一、材料兼容性革命
搭载专有紫外光源(172nm/222nm/308)突破传统光刻工艺限制。
可直接在PMMA、ABS、PDMS、纤维素酯(CA/CAB) 等有机材料表面实现高精度图形化,无需预先涂覆光刻胶。
二、极简操作流程
桌面式设计(205×230×400mm)与模块化结构,无需超净环境,开机即用。系统内置精密机械结构,长期免维护校准,显著降低使用门槛。
三、双模式曝光
支持软接触/硬接触两种曝光模式,适配不同材质需求,确保图形转移一致性
详细参数配置
对准装置核心部件是自动调节的z-stage,确保样品与掩膜表面紧密对接,从而提升分辨率并减少缺陷。
采用手动调节位移台和自调平chuck盘以及配备可调节的数码电子显微镜,使操作更加简单并加快对准速度。
同时系统还配备压缩空气和真空供应,对样品进行吸附固定以及实现实验样品与掩膜版的紧密接触,便于更加准确高效的完成对准操作。
详细参数配置
典型应用场景
应用领域:
科研原型验证:
MEMS/生物芯片/光学元件
半导体行业:
微流控、生物芯片、光学器件
材料研究:
材料表面改性研究
产品亮点
高分辨率对准和曝光系统:
? 小型、桌面式经典设计、高精度、高稳定性、操作方便
? 扩展光刻胶和衬底的材料范围,打破传统光刻工艺的限制
? 一致的、高质量的曝光结果,零培训、0基础即可操作
?无需超净间、任何地点都可以光刻;低功耗、可选电池供电
?搭建即可运行,牢固的机械结构和光学器件,无需额外维护和校准
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