开尔文探针是一种非接触、非破坏性振动电容装置，用于测试导电材料的功函或半导体材料表面的表面电势，表面功函。由材料表面最顶部的1-3层原子或分子决定，因而其是一种...

扫描开尔文探针是一种非接触、非破坏性振动电容装置，用于测试导电材料的功函或半导体材料表面的表面电势，表面功函。由材料表面最顶部的1-3层原子或分子决定，因而开尔...

近常压X射线光电子能谱仪四级差分抽气系统，一级和二级差分抽气之间配有阀门，可以实现真空腔体进气时保证分析器的真空度。

薄膜应力量测设备FLX系列设备是由日本TOHO公司所生产的，广泛应用于半导体行业薄膜应力的量测。薄膜应力测试仪/日本TOHO测试原理：在硅晶圆或者其他材料基地上...

低能电子显微镜/LEEM是广泛应用于材料科学领域的高技术分析仪器，能集原位观测、超快及光电子成像于一体，即我们所称的“长眼睛的超级XPS“，能对薄膜以及二维材料...

扫描隧道显微镜/NAP-STM（Scanning Tunneling Microscope, STM）是一种基于量子隧穿效应的高分辨率表面分析仪器，能够在原子尺...

光发射电子显微镜/PEEM是广泛应用于材料科学领域的高技术分析仪器，能集原位观测、超快及光电子成像于一体，即我们所称的“长眼睛的超级XPS"，能对薄膜以及二维材...

来自德国aixACCT公司的铁电分析仪，包括众多型号及选配件，模块化设计的aixACCT 铁电分析仪具有优异的扩展性。德国aixACCT铁电分析仪可广泛地应用于...

来自德国aixACCT公司铁电分析仪，包括众多型号及选配件，模块化设计的aixACCT 铁电分析仪具有优异的扩展性。德国aixACCT铁电测试仪可广泛地应用于如...

高温高压光浮区单晶炉/日本CSC能够提供2200℃以上的生长温度，晶体生长腔压力可达300bar，甚至10-5mbar的高真空。适用于生长各种超导材料单晶，介电...

真空快速退火炉AS-OneAS-One是一种通用的RTP系统，可用于开发快速热退火和快速热CVD工艺。可以搭配分子泵实现高真空下热处理工艺。最高温度1500 ℃...

回流焊炉简介：1. 应用领域：无助焊剂焊接；倒装芯片焊接；键合；Bump回流焊接；微电子封装；功率器件焊接；晶圆热处理；工艺研发；质量控制2. 加热区域：4、6...

德国尤尼坦专业制造真空回流焊炉、快速热退火系统，回流焊炉(无焊剂和无空隙焊接)和高精度热板等热工艺设备。基于20多年的研发和生产实验室和小批量生产的研发设备的经...

真空快速退火炉/德国UniTemp是半导体材料和器件常用的一款工艺设备。快速退火炉可以在真空、惰性气氛、不同的工艺气体环境下使用。

RTP-200 8寸快速退火炉/德国UniTemp为德国优尼坦公司生产，分为RTP-100，RTP-150，RSO-200，VPO-300共四个型号，分别对应4...

离子注入机/法国IBS由离子源、质量分析器、加速器、四级透镜、扫描系统和靶室组成，可以根据实际需要省去次要部位。离子源是离子注入机的主要部位，作用是把需要注入的...

中电流离子注入机IMX-3500是一款最高能量为200kV、晶圆尺寸最大为8英寸的离子注入机，离子注入机/日本ULVAC非常适合大学的研发。

韩国Ecopia变温霍尔效应测试仪HMS3000，HMS5000主要用于研究半导体材料/光电材料的电学特性，可以测量材料在不同温度、磁场下的载流子浓度、迁移率、...

韩国Ecopia全自动变温霍尔效应测试仪HMS-5300LTH温度范围：80k-573k，测量材料Si，SiGe，SiC，GaAs，InGaAs，InP，GaN...

MCS-EMP多用途电磁铁平台提供了自动化可变磁场实验所需的所有基本组件，包括两种尺寸可选（4英寸/7英寸）的电磁体，两种尺寸可选（2英寸/4英寸）的磁极帽和磁...