真空气氛箱式炉LFM1200C-7.2VC用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。

新能源材料设备特点：该设备是由开启式真空管式炉根据特殊工艺要求而设计的，其滑轨式结构设计在实验过程中可满足多种工艺要求

立式高温淬火炉如图所示，集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用电阻丝为加热元件，用于催化剂焙烧，方便催化剂装填和转移。

薄膜材料制备广泛用于:真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，法兰以卡箍密封，安装拆卸简便快捷，是各...

双工位立式真空封管机主要用于样品的无氧无水真空密封保存和高温固相合成，封管机上有电磁阀，通电后处于常开状态，当压力达到设定压力后，电磁阀自动关闭，停止进气。 标...

简要介绍区域熔融纯化设备衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用电阻丝为加热元件。加热元件与炉管平行，均匀地分布在炉管外，有效的保证了温场的均匀性。测温采用性能稳...

1600系列高温管式炉LFT1600C 300D60高温真空管式炉采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。优质硅钼...

多温区管式高温高压炉集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用硅碳棒为加热元件，均匀分布于炉管两侧，温场均匀可靠。镍基合金材料制成的金属炉...

LFT-1200C 400D60单温区管式炉采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。。进口加热电阻丝镶嵌延长炉体使...

温控和移动平台LFT1200C-VI设备设计为方便加热炉取放物料，采用钢丝提拉方式，伺服电机经过PLC控制以缓慢平稳的速度进行转动提拉，提拉速度可调（慢档：0....

真空箱式炉LFM1200C 91VC系列用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。

LFM系列坩埚熔炼炉设计用于电子元件、玻璃、陶瓷粉料的预烧、烧结，亦可作为其它陶瓷产品、稀土元件、磁性材料等的烧成之用。保温材料采用高纯轻质氧化铝纤维，30段P...

真空提拉炉LFT1700C100D80-TSSGVC-2设备为真空或者气氛保护条件下的提拉设备，样品处理位于刚玉管内，刚玉管两端均有真空法兰密封。上端通过压缩波...

四工位预热封管机 LQS-04H设备，主要用于实现样品的无氧无水真空密封保存和高温固相合成，整套系统由加热炉体、真空封管系统、氢氧机（共用现场已有设备）、分子泵...

催化反应炉LFT1200C300D10 III炉体小巧，升温速度极快，它不仅可以抽真空,也可以通气体保护，其结构使得拆装炉管方便，操作简捷，设备配有观察窗口，透...

生物质热解碳化活化系统包括：机架、进料系统、反应管组件、供汽系统、收料系统、反应炉、预热炉、裂解炉、裂解反应管、换热器、尾气燃烧机构、尾气过滤罐、吊架和电气控制...

区融炉 LFT1200C 30D50 QR设计为有机材料或无机材料区域融化提纯使用，炉体加热区长度30mm，伺服电机经过PLC控制以缓慢平稳的速度推进，行进速度...

立式淬火炉 LFT1500C 50D30 OP如图所示，炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用硅碳棒为加热元件。该设备设计为立式结构，样品由吊丝固定,真空腔室...

单工位高真空封管机系统主要用于样品的无氧无水真空密封保存和高温固相合成，整套系统由真空封管机、氢氧焰机、真空系统、石英管机管接头组成，标准化定制石英管和石英柱保...

化学气相沉积设备CVD1200C-II-SL200D50-5Z 双温区滑轨式CVD系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并...