HMDS预处理真空烘箱

   产品用途:该产品主要用于半导体行业，HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。

   一、产品规格：

   型号：BD/HMDS-6090内形尺寸：450×450×450

   型号：BD/HMDS-6210内形尺寸：560×640×600

   二、技术参数：

   1、控温范围：RT+10～250℃

   2、温度分辨率：0.1℃

   3、温度波动度：±1℃

   4、达到真空度：小于133Pa

   5、真空度：100Pa～100000Pa

   6、定时范围：1～9999min

   7、工作室材料：316L

   8、样品架：2块、3块

   9、真空泵：4L/S

   10、电源电压：220V/50Hz、380V/50Hz三相五线制

   11、总功率：3000W、4500W

   三、产品特点：

   1、外壳采用冷轧钢板制造，表面静电喷塑。内胆、样品机、连接管路均采用优质不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防dan双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。

   2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

   3、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。

   四、HMDS预处理系统操作流程：

   1、首先确定烘箱工作温度；

   2、预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充入氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分;

   3、再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应;

   4、当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。

   五、控制系统：

   1、7.0英寸维纶彩色触摸屏，三菱PLC控制器；

   2、富士微电脑双数显温度PID控制器，控温精que可靠；

   六、保护系统：

   1、漏电保护；

   2、超温保护；

   3、缺液保护；

   七、设备使用条件：

   1、环境温度：5℃～＋28℃（24小时内平均温度≤28℃）

   2、环境湿度：≤85%R.H

   3、操作环境需要室内通风良好,机器放置前后左右各80公分不可放置东西;

   八、HMDS预处理真空烘箱服务承诺：

   保修十二个月，免费送货上门,在对该设备安装调试结束后,在用户现场对相关技术人员免费做相应的操作培训,人数不限

   北京中科博达仪器有限公司产品系列:高温试验箱、低温试验箱、恒温恒湿试验箱、低温恒温试验箱、高低温试验箱、交变高低温试验箱、高低温湿热试验箱、交变高低温湿热试验箱、盐雾腐蚀试验箱、二氧化硫试验箱、鼓风干燥箱、高温烘箱、真空干燥箱、温度冲击试验箱、紫外光老化试验箱、氙弧灯耐气候试验箱、臭氧老化试验箱、换气老化试验箱、沙尘试验箱、淋雨试验箱、摆管淋雨试验设备、滴水试验设备、振动台、振动试验机、二氧化碳培养箱、霉菌培养箱、热空气消毒箱、低温培养箱、药品稳定试验箱、防锈油脂试验箱、大型盐雾试验室、大型低温恒温试验室、大型高低温检测试验室。