PHI GENESIS 聚焦X射线光电子能谱仪

PHI Genesis 500是新一代配置了全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱，易操作式多功能选配附件，能够实现全自动样品传送停放，同时还具备高性能大面积和微区XPS 分析，快速准确深度剖析，为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供多方面的解决方案。

简单易操作

PHI GENESIS 提供了一种全新的用户体验，仪器高性能、全自动化、简单易操作。

操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数，同时保留诸如进样照片导航和SXI 二次电子影像准确定位等功能。

简单友好的用户界面

多功能选配附件

原位的多功能自动化分析，涵盖了从LEIPS 测试导带到HAXPES 芯能级激发的全范围技术，相比于传统的XPS 而言，PHI GENESIS 体现了良好的性能价值。

全面的优良解决方案:

高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多种其他选配附件可以满足所有表面分析需求。

多数量样品大面积分析

把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内

可同时使用三个样品托

80mm×80mm 的大样品托可放置多数量样品

可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种各样的样品

标准样品托 40mm×40mm                                ?样品托 80mm×80mm

可聚焦≤ 5μm 的微区X 射线束斑

在PHI GENESIS 中，聚焦扫描X 射线源可以激发二次电子影像（SXI），利用二次电子影像可以进行导航、准确定位、多点多区域同时分析测试以及深度剖析。

快速深度剖析

PHI GENESIS 可实现高性能的深度剖析。聚焦X 射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子设备和高效双束中和系统可实现全自动深度剖析，包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。

角分辨XPS 分析

PHI GENESIS XPS 的高灵敏度微区分析和高度可重现的中和性能确保了对样品角分辨分析的性能。另外，样品倾斜和样品旋转相结合，可同时实现角度的高分辨率和能量的高分辨率。

应用领域

主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。

用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的*功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱仪，具有性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。

多功能选配附件

UPS 紫外光电子能谱、LEIPS 低能反光电子能谱、AES/SAM 俄歇电子能谱、REELS 反射式能量损失谱、双阳极X 射线源（Mg/Zr、Mg/Al）、Ar-GCIB 氩团簇离子源、Ar-GCIB 簇大小测量工具、C60 团簇离子源 （20KV）、样品加热冷却模块、4 电触点加热冷却模块、样品保护传送模块、SPS 样品定位系统等等。

平面图

安装要求