CY-PECVD100-1200-Q CVD化学气相沉积系统
参考价 | ? 60000 |
订货量 | ≥1件 |
- 公司名称 郑州成越科学仪器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 CY-PECVD100-1200-Q
- 产地
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2024/12/17 11:44:27
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简单介绍:
CVD化学气相沉积系统广泛应用于材料科学和工程领域,用于制备各种功能性薄膜,如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳纳米管等。它在半导体、光电子、能源、生物医学等领域都有重要应用
详情介绍:
CVD气相沉积系统是一种常用的薄膜制备技术,通过在高温下将气体反应物质与基底表面反应,形成薄膜。
1. 反应室温度:通常在几百到千度之间,具体取决于所需的反应温度和材料。
2. 反应气体:根据所需的薄膜材料和结构,可以使用不同的反应气体,如氨气、氢气、氧气、二氧化硅等。
3. 压力范围:通常在几百帕到几千帕之间,具体取决于反应物质和反应条件。
4. 反应时间:根据所需的薄膜厚度和质量,反应时间可以从几分钟到几小时不等。
5. 基底材料:CVD系统可以用于各种基底材料,如硅、玻璃、金属等。
6. 应用领域:CVD气相沉积系统广泛应用于材料科学和工程领域,用于制备各种功能性薄膜,如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳纳米管等。它在半导体、光电子、能源、生物医学等领域都有重要应用。
技术参数:
产品名称 | CVD化学气相沉积系统 | |
产品型号 | CY-PECVD100-1200-Q | |
频电源 | 信号频率 | 13.56MHz±0.005% |
功率输出 | 0~300W | |
*大反射功率 | 100W | |
反射功率 | <3W (*大功率时) | |
功率稳定性 | ±0.1% | |
管式炉 | 管子材质 | 高纯石英 |
管子外径 | 100mm | |
炉膛长度 | 440mm | |
加热区长度 | 200mm+200mm (双温区) | |
连续工作温度 | ≦1100℃ | |
温控精度 | ±1℃ | |
温控模式 | 30段程序控温 | |
显示模式 | LCD触摸屏 | |
密封方式 | 304 不锈钢真空法兰 | |
供气系统 | 通道数 | 6通道 |
测量单元 | 质量流量计 | |
测量范围 | A 通道: 0~200SCCM, 气体为H2 | |
B 通道: 0~200SCCM,气体为CH4 | ||
C 通道: 0~200SCCM,气体为 C2H4 | ||
D通道: 0~500SCCM,气体为 N2 | ||
E通道: 0~500SCCM,气体为 NH3 | ||
F通道: 0~500SCCM, 气体为 Ar | ||
测量精度 | ±1.5%F.S | |
工作压差 | -0.15Mpa~0.15Mpa | |
接头规格 | 1/4" 卡套接头 | |
气体混合罐 | 1L | |
真空系统 | 机械泵 | 双极旋片泵 |
抽速 | 1.1L/S | |
真空测量 | 电阻规 | |
极限真空 | 0.1Pa | |
抽气接口 | KF16 | |
滑 轨 | 炉体可以滑动,实现快速降温 | |
供电电源 | AC220V 50Hz |