CY-PECVD-240T-SS 等离子增强化学气相沉积设备
参考价 | ? 60000 |
订货量 | ≥1件 |
- 公司名称 郑州成越科学仪器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 CY-PECVD-240T-SS
- 产地
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2024/12/17 11:38:45
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简单介绍:
等离子增强化学气相沉积设备采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜详情介绍:化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件,可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
主要功能及特点:
等离子增强化学气相沉积设备利用平板电容式辉光放电原理,将通入沉积室的工艺气体解离并产生等离子体,被解离的基团在等离子体中重新发生化学反应,由于等离子体存在,促进气体分子的分解、化合、激发和电离,促进反应活性基团的生成,从而降低沉积温度,在具有一定温度的基片上沉积形成薄膜。可根据工艺调节等离子体的密度和能量,控制薄膜的生长速率和微结构。
产品参数:
产品名称 | 桌面式4英寸平板等离子体增强化学气相沉积PECVD | |
产品型号 | CY-PECVD-240T-SS | |
供电电源 | AC220V 50Hz | |
射频电源 | 信号频率 | 13.56MHz |
功率输出范围 | ||
工作腔体 | 加热温度 | RT-500℃(还可选择600℃,800℃,1000℃等) |
样品台尺寸 | Φ100mm(兼容4英寸及以下样品) | |
样品台转速 | 1-20rpm 可调 | |
腔体材质 | 不锈钢 | |
观察窗 | Φ60mm, 带挡板 | |
供气系统 | 通道数 | 3 (可根据需要选择其他通道数,其他气体种类,其他测量范围) |
测量单位 | 质量流量计 | |
测量范围 | A 通道: 0~200SCCM for O2 | |
B通道: 0~200SCCM for N2 | ||
C通道: 0~200SCCM for Ar | ||
真空系统 | 前级泵抽速 | 1.1L/s |
分子泵抽速 | 60L/s | |
真空测量 | 复合真空计 | |
真空度 | 5.0*10-3Pa | |
水冷机 | 水流速 | 10L/min |
冷却功率 | 50W/℃ |