三氟化氮监测报警系统的安装要求与维护校准

来源：广州市诺达电子有限公司 2025年07月21日 18:11

NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有爆炸性，操作时应十分谨慎。

三氟化氮（NF?）监测报警系统是专用于检测NF?气体浓度并实现安全联锁控制的工业安全设备，广泛应用于半导体刻蚀工艺、光伏制造等场景。其核心由探测器、控制器及联动模块构成。

工作环境：

温度：

催化燃烧：-40~+70℃；

电化学：-20~+50℃；PID：-20~+50℃；

红外：-20~+50℃；

荧光法：-20~+50℃；

氧化锆:-40℃~+700℃

压力：86-110Kpa；（氧化锆：≤0.6Mpa)

湿度：15%RH~95%RH（无凝露）

安装要求‌：

探测高度：距地面0.3-1.5米（因NF?密度大于空气）。

气路连接：泵吸式采样时，流量需稳定在0.4-0.6L/min。

‌维护校准‌：

每季度用标准气体校准，偏差＞±5%需调整。

电化学传感器寿命约2年，NDIR传感器寿命＞5年。

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