实验室超声波清洗机 芯矽科技

一、原理与核心技术

实验室超声波清洗机通过高频超声波换能器（典型频率为20-40kHz）在清洗液中产生数百万个微米级空化气泡。这些气泡在声波作用下迅速振荡、膨胀并破裂，形成局部高温（约5000K）、高压（约100MPa）的微射流，瞬间剥离污染物（如油污、颗粒、氧化层等），实现对复杂表面的深度清洁。设备支持多种清洗模式，包括单频、双频交替或脉冲超声，可针对不同材质（如玻璃、金属、塑料、陶瓷）和污渍类型（有机/无机）优化效果。

二、关键性能参数

频率与功率

低频（20-28kHz）：适合大颗粒污渍和重油污清洗（如机械零件、反应釜）。

高频（35-40kHz）：用于精密部件（如晶圆、微电极）的细微污染清除。

功率可调范围通常为10-100W，部分工业级设备可达500W以上。

容量与内槽材质

小型台式机型容量为0.5-5L，中型机可达10-30L，大型工业设备超过100L。

内槽材质以316L不锈钢为主，耐腐蚀型号可选PTFE（聚四氟乙烯）或PVDF涂层，避免化学腐蚀。

温度控制

加热功能（常温~80℃）可加速分子运动，提升清洗效率，部分机型支持恒温调节（±1℃）。

脱气功能（通过真空或惰性气体置换）去除清洗液中的溶解气体，防止“屏蔽效应”。

计时与程序控制

数字控制面板支持1-999分钟定时，部分机型可存储多组预设程序（如不同样品对应不同参数）。

三、核心优势

无损清洁

非接触式清洗避免机械刮擦，适用于脆弱样品（如光学镜片、PCR管、半导体晶圆）。

可处理复杂几何结构（如盲孔、缝隙、毛细管）清除传统擦拭难以触及的污染物。

高效均匀

超声波穿透力强，清洗速度比人工擦拭快10倍以上。

支持同时处理多件样品（如20支离心管或1组培养皿），提升实验效率。

环保节能

耗液量低（仅需淹没样品），可循环使用清洗剂（如乙醇、IPA、专用环保溶液）。

部分机型配备溶剂回收系统，减少危废处理成本。

安全便捷

封闭式内槽设计防止液体飞溅，降噪技术（<60dB）降低实验室干扰。

支持自定义程序，可与自动化流水线（如样品前处理系统）集成。

四、应用场景

生命科学领域

清洗玻璃器皿（移液器吸头、培养瓶）、金属器械及塑料耗材。

清除生物污染物（如蛋白质残留、细胞碎片），避免交叉污染。

材料与电子工程

半导体晶圆预处理（光刻胶去除、微粒清洗）、PCB板焊后助焊剂清理。

纳米材料表面活化（如碳纳米管、量子点）。

四、选型指南

根据样品特性选择频率：

精密器件（如晶圆、微机电系统）：40kHz高频机。

重型油污或大颗粒污渍（如机械轴承）：28kHz低频机。

容量匹配需求：

个人实验选5L以下台式机；团队或批量处理选10-30L中型设备。

功能扩展性：

加热、脱气、扫频功能提升复杂污渍处理能力。

防爆型号适用于易燃溶剂（如丙酮、酒精）