AT650P 等离子体增强原子层沉积PEALD

AT650T可在用户现场升级为AT650P

技术参数：

l 高达400°C

l 具有高频率射频的空心阴极

l 金属密封线降低了大气污染的风险

l 前体加热至185°C（带选择性增压）

l 4前体和多达4个有选项的共反应物

l 可选:手套箱界面或加载锁定

l 高达6英寸或更高的基板

l 静态处理模式下可实现高曝光

选项：

l 定制卡盘/镀层

l QCM(石英晶体微天平)

l 为您的瓶子设计气泡器

l 负载锁(或手套箱接口)

l 共反应器线(MFC控制)(最多可增加2条)

l 额外加热前体管线至185摄氏度，共4条。定制系统-请咨询我们

客户案例：

全球100多家用户，多家重复购买的用户：

哈佛大学

赫尔辛基大学（Professor Mikko Ritala and Matti Putkonen）

泛林集团 (LAM) （3台以上）

牛津大学（2台以上， Prof Sebastian Bonilla）

国立材料科学研究所(日本，多台)

东京大学(多台)

早稻田大学(多台)

西北大学(美国)

剑桥大学(英国)

莱斯大学

英属哥伦比亚大学(加拿大)

ENS-Paris(法国、高等师范学院)

北京量子研究院

北京大学

布里斯托大学（英国）

谢菲尔德大学等等

重复购买客户的具体运用：

1.  早稻田大学 (Waseda University) (日本东京) - 传感器、表面改性、纳米压印光刻、先进通孔制造 (AIST) – 日本茨城县

2.  早稻田大学 (Waseda University) (日本东京) – 系统 #2；类似应用。日本神奈川县横滨国立大学 (Yokohama National University)

13. 国立材料科学研究所 (NIMS) #1 (日本茨城县) - 表面和薄膜中的声子；原子尺度低维等离激元学；纳米材料中的自旋轨道分裂

14. 国立材料科学研究所 (NIMS) #2 (日本茨城县) - 碳纳米管中的自旋相关输运；纳米间隙制造和分子输运；石墨烯中的带隙工程；有机晶体管

21. 私人公司 (Private Company) (美国俄勒冈州波特兰) - TEM 样品制备；HfO2, Al2O3, Ta2O5

22. Precision TEM (美国加利福尼亚州圣克拉拉) - TEM 样品制备；HfO2, Al2O3

43. 私人公司 TK (Private Company TK) (日本宫城县) - TEM 样品制备

44. 私人公司 (Private Company) (美国俄勒冈州波特兰) - TEM 样品制备；HfO2, Al2O3, Ta2O5

45. 东京大学 (University of Tokyo) (日本) – 先进 ALD 工艺

93. 东京大学 (University of Tokyo) – 日本东京 – Dr. Onaya

91. 泛林集团 (LAM Research) – 美国俄勒冈州图瓦拉丁 (Tualatin)

97. 泛林集团 (LAM) 系统 #2 – 美国俄勒冈州图瓦拉丁

98. 泛林集团 (LAM) 系统 #3 – 美国俄勒冈州图瓦拉丁

99. 牛津大学 (University of Oxford) – 英国牛津 - Prof Sebastian Bonilla

100. 德岛大学 (Tokushima University) (日本)

101. 赫尔辛基大学 (University of Helsinki) (芬兰) Professor Mikko Ritala and Matti Putkonen

102. 应用材料公司 (AMAT - Applied Materials) – 美国

103. 牛津大学 (University of Oxford) (英国牛津)