HL 200 德国进口OEG接触角测量仪

德国进口OEG接触角测量仪 HL 200专用于半导体表面特性分析，搭载±0.1°超精测量模块与智能滴液系统（最小液滴0.2μl），1秒完成晶圆润湿性检测。360°全向扫描结合200mm真空载台，无损定位超薄晶圆，精准调控表面自由能，提升光刻胶结合力，降低缺陷率超30%。适配光刻胶开发、抛光液验证等场景，确保5nm及更优良节点良率。

高精度晶圆表面能分析系统：HL 200 技术全览

核心功能定位

专为半导体工艺研发的接触角测量系统，通过±0.1°级接触角精度与0.2μl微量液滴控制技术，实现晶圆表面自由能（SFE）的动态解析，直接优化光刻胶附着力、旋涂均匀性及缺陷控制（<1μm线宽良率提升超30%）。

德国进口OEG接触角测量仪硬件架构亮点

精密机械系统：封闭式防尘结构（400×300×300mm），集成特氟龙涂层晶圆台（兼容200mm直径），支持真空吸附与360°旋转定位（x轴行程100mm）

光学成像模块：500万像素USB摄像头+固定焦距物镜，搭配7级可调LED环形光源，0.01°级角度分辨率

滴液控制系统：5种配置可选（含双自动滴液模式），手动三轴微调（x/y/z轴精度±0.1mm），最小液滴体积0.2μl（精度0.1μl）

测量效能突破

1秒快速检测：实时高清视频捕捉液滴形态，自动计算接触角并生成能值曲线

数据可溯性：Windows系统软件同步显示三维润湿分析图与历史数据对比，支持异常波动预警

技术参数集

精度指标：分辨率0.01° / 重复性±0.1° / 绝对精度±0.1°

兼容规格：玻璃注射器&一次性鲁尔锁针头 / ISO 5级洁净环境适配

工艺验证：成功应用于12英寸晶圆产线，显影缺陷率降低37%（45nm节点案例）

超微量分析：0.2μl液滴匹配微米级结构表征需求，避免传统μl级液滴对纳米图案的过度浸润干扰；

纳米级灵敏度：0.01°分辨率可检测单分子层吸附变化，助力原子层沉积（ALD）工艺的界面调控；

工业级可靠性：封闭式防尘结构符合ISO 5级洁净度要求，支持24/7连续运行，年故障率＜0.1%。