CY-MSV325-II-DCFR-SS 双靶磁控溅射镀膜仪
参考价 | ? 80000 |
订货量 | ≥1件 |
- 公司名称 郑州成越科学仪器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 CY-MSV325-II-DCFR-SS
- 产地
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2024/12/20 17:38:37
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产地类别 | 国产 | 价格区间 | 1-5万 |
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应用领域 | 地矿,能源,建材/家具,电子/电池,钢铁/金属 |
简单介绍:
双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
详情介绍:
是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为两个500W直流电源,直流电源可用于金属薄膜的制备,两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。
镀膜仪具有两路高精度质量流量计,客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路,以满足复杂的气体环境构建需求;仪器标配涡轮分子泵组,极限真空可达1.0E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制,可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品,大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制,在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能,可以进一步提高您的实验效率。
适用范围:
可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
技术参数:
项目 | 明细 | |
产品型号 | CY-MSV325-II-DCFR-SS | |
供电电压 | AC220V,50Hz | |
整机功率 | 6KW | |
系统真空 | ≦5×10-4Pa | |
样品台 | 外形尺寸 | φ150mm |
加热温度 | ≦600℃ | |
控温精度 | ±1℃ | |
可调转速 | ≦20rpm | |
磁控靶枪 | 靶材尺寸 | 直径Φ50.8mm,厚度≦3mm |
冷却模式 | 循环水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
数量 | 2 | |
真空腔体 | 腔体尺寸 | 直径φ325mm,高度500mm |
腔体材质 | SUU304不锈钢 | |
观察窗口 | 直径φ100mm | |
开启方式 | 顶开式 | |
气体控制 | 1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM | |
真空系统 | 配分子泵系统1套,气体抽速600L/S | |
膜厚测量 | 可选配石英晶体膜厚仪,分辨率0.10 ? | |
溅射电源 | 配直流电源,功率500W,射频500W | |
控制系统 | CYKY自研专业级控制系统 | |
设备尺寸 | 540mm×540mm×1000mm | |
设备重量 | 350kg |