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Ky开元集团>产品展厅>半导体行业专用仪器>薄膜生长设备>物理气相沉积设备>PRO Line PVD 75 多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台

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PRO Line PVD 75 多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台

具体成交价以合同协议为准

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。










冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

PRO Line PVD 75
多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75 平台的下一代薄膜沉积系统。PVD 75 在全球拥有 400 多台设备,是一款久经考验、坚固耐用且用途广泛的设计。PRO Line PVD 75 建立在原始设计的成功基础上,改进了系统基础压力和抽空时间。技术的腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、自动基板加载以及用于优化薄膜性能的众多功能是这种创新的设计提供的一些关键优势。®

规格

箱形304L不锈钢腔体

内部尺寸:
15.25“ 宽 x 16.50” 深 x 24“ 高
(387.4mm x 419.1mm x 609.6mm)

铝,O 形圈密封,铰链,前检修门


沉积技术

热蒸发

最多四艘 4 英寸的单艘船,或六艘 2 英寸的船组件


TORUS 磁控溅射源

多达 6 个 2 英寸或 3 英寸光源

多达 4 个 4 英寸信号源


电子束蒸发源

4 口袋 8cc

8 口袋 12cc

6 口袋 20cc


LTE10 有机沉积源

最多两个 10cc 源


沉积方向

热蒸发

向上


TORUS 磁控溅射源

向上、向下或侧溅射


电子束蒸发

向上


LTE有机沉积

向上


底物操作

旋转、加热、冷却、偏置、负载锁定兼容


电源

DC、PDC、RF、MF 和 HIPIMS 电源




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