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Ky开元集团>产品展厅>半导体行业专用仪器>干法工艺设备>等离子体刻蚀设备>KS-S300-E 单片湿法刻蚀机

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KS-S300-E 单片湿法刻蚀机

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湿法刻蚀

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。










冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

1. 产品概述

满足半导体制造中湿法刻蚀工艺,单片加工,适用于SiO2,SiN,Polysilicon和各种金属层的刻蚀,清洗等工艺流程。                    

2. 产品优势

利用位置、速度可控的摆臂喷洒化学液,可以有效的提高刻蚀均匀性
分层式反应腔体设计,可以在同一腔体中喷洒多种化学液,并能有效回收,节约化学液
叠层控制,占地面积小,多可配置4个刻蚀单元

3. 应用域:

半导体制造中湿法刻蚀工艺
封装域中金属层刻蚀,满足UBM及RDL工艺要求
OLED 域中金属及金属氧化物(ITO/IGZO)刻蚀、缓冲层成膜的表面(SiO2)刻蚀清洗等工艺

满足半导体制造中湿法刻蚀工艺,单片加工,适用于SiO2,SiN,Polysilicon和各种金属层的刻蚀,清洗等工艺流程。 





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