捷尼赛思 原子层沉积

材料选择

多种 ALD 材料可供选择，可满足您的要求。 多年来，Beneq 一直是用于研发和工业生产的卷对卷原子层沉积系统的先驱。我们的常用材料包括 Al?O?、TiO?、ZnO、ZnS、SiO? 或可根据要求提供的任何其他材料。

功能亮点

• 卷筒纸宽度：最大420mm

• ALD镀膜厚度：最大100nm

• 动态沉积速率 （Al2O3）： 10 nm *m/min

• 过程温度：最高 250°C

定制

在最大420mm的卷筒纸宽度下，Genesis ALD适用于实验室研发或中试规模生产。 设计用于将 ALD 薄膜处理到聚合物或金属等柔性基材上。通过与我们的合作伙伴 E+R Group（卷对卷真空镀膜机公司）合作，我们为客户提供更宽的卷筒纸和生产线集成的可选设计。

市场和应用

用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。

• 各种类型锂离子和固态电池的阴极和阳极的钝化

• 用于柔性太阳能电池的导电层和封装

• 用于柔性电子产品的防潮层