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Ky开元集团>产品展厅>半导体行业专用仪器>热工艺设备/热处理设备>退火炉> Unitemp真空快速退火炉RTP-100,RTP-150

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Unitemp真空快速退火炉RTP-100,RTP-150

具体成交价以合同协议为准

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昱臣半导体技术(香港)有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商,昱臣半导体技术(香港)有限公司所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体企业。

昱臣半导体技术(香港)有限公司目前代理的主要产品包括:

- 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System);

- 快速退火炉(RTP);

- 回流焊炉,真空烧结炉(Reflow Solder System);

- 探针台(Probe Station),低温探针台(Cryogenic Probe Station);

- 贴片机(Die Bonder),划片机(Scriber),球焊机/锲焊机(Wire Bonder);

- 原子层沉积系统(ALD),等离子增强原子层沉积设备(PEALD);

- 磁控溅射镀膜机(Sputter),电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator),热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator),脉冲激光沉积系统(PLD) ;

- 低压化学气相沉积系统(LPCVD),等离子增强化学气相沉积系统(PECVD),快速热化学气相沉积系统(RTCVD);

- 反应离子刻蚀机(RIE),ICP刻蚀机,等离子体刻蚀机;

- 致冷机/低温恒温器(Cryostat/Cryocooler);

- 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate);

- 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe),光反射膜厚仪(Reflectometer);

- 高温超导磁体(HTS Magnet),快速场循环核磁共振弛豫测试仪(FFC Reflexometer);






原子层沉积系统,快速退火炉,PECVD,刻蚀机

RTP-100/150快速退火炉为德国优尼坦公司生产,分为RTP-100, RTP-150, RSO-200,VPO-300共四个型号,分别对应4英寸、6英寸、8英寸、12英寸的真空快速退火炉产品。

点击查阅详细信息

技术规格:

- 温度:1200摄氏度;

- 升温速率:150摄氏度/秒;

- 降温速度:200摄氏度/分钟 (1000摄氏度-->400摄氏度);

- 温控均匀性:≤ 1.5%设定温度;

- 加热方式:红外卤素灯,顶部及底部加热;

- 灯管数量及功率:18支/20千瓦(RTP-100),24支/21千瓦(RTP-150);

- 腔体冷却:水冷方式;

- 衬底冷却:氮气吹扫;

- 工艺气路:MFC控制,最多4路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等);

- 主机尺寸及重量:505mm x 504mm x 420mm (W x D x H),约55Kg;

 

仪器特点:

- 真空快速退火炉,有低真空型号(10-3 hPa)、高真空型号(10-6 hPa);

- 可在不同气氛环境下使用,如惰性气体、氧气、氢氮混合气等;

- 控制方式:SIMATIC, SPS人机界面控制,7英寸触摸屏;

- 可存储50个程序,每个程序最多分为50段控制;

- 全自动智能控制,包括温度、时间、气体流量、真空度、循环水均可自动设置;

- 优异的温控均匀性,良好的工艺重现性;

- 小尺寸台式设计;

 

应用领域:

- 离子注入/接触退火;

- 快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);

- 可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同环境下使用;

- SiAu, SiAl, SiMo合金化;

- 低介电材料;

- 晶体化,致密化;

- 太阳能电池片键合;

等等...


参考客户:

西安交通大学、西安电子科技大学、中国科技大学、江汉大学、中科院上海技术物理所、中科院苏州纳米所、北京航天仪器研究所、京东方、武汉光迅、能华微电子等。

 


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