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Ky开元集团>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>涂胶显影设备>M+100CD 匀胶机

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M+100CD 匀胶机

具体成交价以合同协议为准

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半导体设备、半导体材料、电子产品、机械零配件、仪器仪表、专用机床、力学、测量检测设备、化学抛光设备的技术开发及服务;薄膜电路生产;光纤照明设备、环境试验设备的生产及销售.(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)

匀胶机,显影剂,喷胶机

    IC半导体、LED、Bumping、化合物、光通讯、OLED、MEMS等 Wafer Size 晶圆尺寸:Φ2"-8"
    Spin motor主轴转速:0-8000rpm±1rpm
   Uniformation膜厚均匀性:<1%(参考AZ1500)
  Temperation温度均匀性:0-250℃±0.5℃                                                      
    MTBF:≥1500小时Uptime:95%                                                                                        
二、涂胶单元 Coater Uint:     胶盘:Teflon,Delrin
   可编程移动式滴胶
   可配3路喷嘴
   正/背面去边清洗
   主轴电机:伺服电机(高速:8000rpm)
   匀胶温度控制(选配)
   喷嘴预清洗(选配)
   环境温湿度控制(选配)
三、显影单元 Developer:                                                                
     胶盘:Delrin
   4路喷液(2 spray,1 streaam, 1 Dl water)
   主轴电机:伺服电机(高速:8000rpm)
   背面清洗
   滴液方式:胶泵或压力罐
   液体温度控制(选配)
   排风控制
   体积尺寸:1400mm(W)×1400mm(D)×1700mm(H)


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