专业电子束曝光系统

电子束直写系统  EBPG5150

自动化和高速度的电子束直写技术

电子束直写系统EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。 

Improved Specifications

• Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
• Extreme beam current up to 350 nA
• Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

• 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
• 155mm的平台
• 小曝光特征尺寸小于8nm
• 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器
• 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，大可以到1mm
• GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境
• 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求

可选的系统增强升级

EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让*的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。

电子束直写系统EBPG5150 应用

• 电子束曝光用于制作GaAs T型器件

• 微盘谐振器

• 开口环谐振器

电子束直写系统EBPG5150 产品详情