ICP-500D ICP等离子沉积系统-SI 500D
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 北京亚科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 ICP-500D
- 产地 德
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2024/9/25 12:16:56
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应用领域 | 电子/电池 |
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SENTECH ICP等离子沉积系统-SI 500D
是主流的半导体设备商,研发、制造和销售良好的薄膜测量仪器(反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪)和等离子工艺设备(等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统)。
SI 500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备,利用ICP高密度等离子源来沉积电介质薄膜。可在极低温度下(< 100?C)沉积高质量SiO2, Si3N4, 和SiOxNy薄膜。可以实现沉积薄膜厚度、折射率、应力的连续调节。
SI 500 D主要特点:
适用于8寸以及以下晶片
低温沉积高质量电介质膜:80°C~350°C
高速率沉积
低损伤
薄膜特性 (厚度、折射率、应力) 连续可调
平板三螺旋天线式PTSA等离子源 (Planar Triple Spiral Antenna)
SENTECH高级等离子设备操作软件
穿墙式安装方式