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蚂蚁源科学仪器(北京)有限公司

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CMSD 复合导电添加剂高速湿磨机

参考价 ? 118900
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准

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 上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国IKNxian进技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与quan球的混合乳化技术同步,同时拥有yi流的技术研究人才和生产能力,为zhong国及quaan球提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为zhong国流体高剪切混合设备行业的者。

         

 公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一乳化机,二 均质机,三 分散机,四 胶体磨,五 乳化泵,六成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国nei的zhu名供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为guo家zhong点工程配套,部分产品返销国外,取得了显zhu的经济效益和社会效益。
         

 “追求高品质”是依肯公司是的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在混合乳化设备制造的广阔天地中散发出*的魅力。







乳化机,均质机,分散机,剪切机,胶体磨,粉液混合机,搅拌机,实验室分散乳化机,中试型胶体磨,真空乳化机

间歇式锂离子石墨烯导电添加剂高速湿磨机,复合导电添加剂高速湿磨机,石墨烯导电添加剂研磨机,NMP石墨烯导电添加剂研磨分散机,碳纳米管石墨烯复合导电浆料研磨机,灰黑色粘稠状浆料均质研磨机,you异石墨材料湿法研磨机

 锂离子电池石墨烯复合导电添加剂外观为灰黑色黏稠状浆料,是以石墨烯为核心、NMP 为溶剂,添加一定量碳纳米管的石墨烯复合导电浆料。利用石墨烯优异的导电性、导热性和柔性薄片结构,可在整个材料体系上形成高效的三维立体导电网络,能够降低电池内阻,提高其充放电倍率和循环性能。

石墨烯在NMP溶剂先混合搅拌,后经过上海依肯高速剪切研磨分散设备进行高速剪切、离心、分散、均化,同时由于NMP溶剂有毒、易挥发,因此需要采用真空形式制备。

由于石墨烯的特殊结构,采用砂磨机容易破坏片层结构,超声剥离效率慢。所以目前大多数厂家都在使用我司高剪切研磨分散机进行石墨烯浆料的处理,研磨分散机是将胶体磨(研磨机)和分散机合二为一的设备。工作原理为定转子高速运转产生强大的剪切力、离心力,对物料进行剪切、剥离、分散、细化。所以特别适合石墨烯浆料的生产,并且不容易破坏片层结构。详询上海依肯 工程师 林万翠

 

 ikn石墨烯导电添加剂湿磨机三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式研磨分散机比普通的研磨分散机的速度达到3倍以上,的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

 

分散头:用于研磨后再次细化和团聚打开

上海依肯专业从事于石墨烯设备的生产和研发,有着丰富的经验积累,跟常州、无锡、长春、宁波、潍坊、深圳、厦门、东莞等地大型锂电石墨烯、碳纳米管生产企业有着深度合作。以及石墨烯衍生产品,石墨烯涂料、石墨烯润滑油、石墨烯复合材料等都有着足够的经验。锂电行业中深圳、湖南、上海、四川、江苏等大型知名锂电企业使用我司研磨分散机进行新型石墨复合材料制备及多样锂电浆料的研发、生产     石墨烯研究中包括成都研究所,北京航天,常州、宁波、安徽、上海、中科院等   高校中上海大学、南京工业大学、清华大学、北京化工大学、华理等多所知名高校研发   还有其他很多的企业、研究院及高校    详询上海依肯 工程师  林万翠

上海依肯研磨分散机较普通分散机(zui高转速2930转)高出4-5倍转速(14000转),作用力更强,剪切分散效果更好;设备整机夹套,可根据需求加热货冷却;工作腔体及罐体夹套中的介质可根据需求通水/冷却液/浆料中的液体介质/导热油等均可;定转子间间隙仅为0.2-0.4mm(间隙可调,研磨细度可控),而普通分散机的定转子间隙为1mm以上。详询上海依肯 工程师 林万翠

 

设备的选型要点:

1、明确使用设备所需达到的效果和目的

2、详细了解并掌握研究物料的性质(包括物理、化学性质)

3、根据物料对设备的搅拌机进行选型

4、再次确定设备的操作参数及结构设计

5、综合考虑设备的成本

CMSD2000系列研磨分散机设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

CMSD2000/5

1000

10500

41

11

DN40/DN32

CMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

CMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN80/DN65

CMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150

 

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

 

上海IKN技术,*创意,融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良,在原来CM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改良型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

 

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